Weitere Rasterelektronenmikroskope an der TU Dortmund

Tescan MIRA3 XMU 

Auflösung: 1 -3 nm

Prof. Dr. Frank Walther
Werkstoffprüftechnik
Fakultät Maschinenbau
Kontakt: Dr.-Ing. Marina Macias Barrientos 

Zeiss XB550L FIB-REM

Auflösung: 0,7 nm bei 30 kV, 1,6 nm 1 kV

Prof. Dr. Frank Walther
Werkstoffprüftechnik
Fakultät Maschinenbau
Kontakt: Dr.-Ing. Marina Macias Barrientos

JEOL JSM 7001F

Auflösung: 1,2 nm bei 30 kV, 3 nm bei 1 kV

Prof. Dr. W. Tillmann
Werkstofftechnologie
Fakultät Maschinenbau
Kontakt: Dipl.-Ing. Lydia Reisch-Lang

Visitec MIRA XI Großkammer-REM

Auflösung: 3 nm

Prof. Dr. Erman Tekkaya
Umformtechnik und Leichtbau
Fakultät Maschinenbau
Kontakt: Jeanette Brandt

Coxem EM-30 Plus RJL Micro Analytic

Auflösung: 5 nm

Prof. Dr. Erman Tekkaya
Umformtechnik und Leichtbau
Fakultät Maschinenbau
Kontakt: Jeanette Brandt

Raith Pioneer Elektronenstrahl-Lithographie

Elektronenstrahl-Lithographie, Auflösung bis zu 10 nm

Prof. Dr. Stefan Tappertzhofen
Mikro- und Nanoelektronik
Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik
Kontakt: Philipp Czyba

Zeiss-LEO 982

Elektronenstrahl-Lithographie, Auflösung bis zu 10 nm

Prof. Dr. Stefan Tappertzhofen
Mikro- und Nanoelektronik
Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik
Kontakt: Philipp Czyba

JEOL JSM-IT800

Elektronenstrahl-Lithographie, Auflösung bis zu 0,7 nm

Prof. Dr. Christoph Lange
THz-Spektroskopie
Fakultät Physik
Kontakt: Philipp Czyba